OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，三路浮子流量供气系统组成，其真空度可达到10-2 torr。
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全自动双炉滑动 CVD 系统（1200℃Max） OTF-1200X-S2-50SL-CVDOTF-1200X-S2-50SL-CVD 是一款全自动控制的 CVD 系统，可存储预制实验参数自动生成工艺流程，预设工艺流程，存储预制流程，调用工艺流程，系统自动执行工艺流程，并记录工艺流程。该系统由三个模块组成，双炉体滑动加热系统，真空系统，四通道气体质量流量计控制系统，独立开发的逻辑软件对以上三套系统进行工艺预设编程性控制。
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GSL-1600X-CVD 是一款多功能的合成系统，针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺，此款仪器有三个组成模块，超声雾化装置，1700 度管式炉和高压静电收集装置。材料制作分为三个步骤：前驱体雾化，加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统，可广泛用于纳米材料制备，电极材料包覆复合等方面。
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管式炉 VBF-1200X 是以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和 30 段程序控温，K 型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1200 度，
可连续工作温度 1100 度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属
退火、质量检测用的理想产品。
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水平真空管式炉 VBF-1200X-H8 以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和 30 段程序控温，K 型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1100 度，可连续工作温度 1000 度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。
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管式炉 VBF-700X 以电阻丝为加热元件，采用不锈钢罐体结构和 30 段程序控温，2 根 K 型热电偶，2 块智能控温仪，最高温度能达到 800 度，可连续工作温度 700 度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品
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OTF-1200X-5-R-II 是一款高温气氛管式炉，用于对氧化敏感材料进行高温热处理，最高温度可达 1200℃。标配有一根外径 60mm 的连熔炉管。设备配置有进气电磁阀、电子点火器和探测器，一旦有气体泄漏，将自动切断进气。炉管两端安装有防爆网，以便在出现紧急情况下提供额外的安全保护。控温系统采用 PID30 段程序化控温，控温精度可达±1℃。
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KSL-1100X-S-H 是一款小型混合箱式/管式炉，作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理，作为管式炉可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理，以电阻丝为加热元件，采用 K 型热电偶和 30 段可编程温度控制器，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1100 度，可连续温度 1000 度，控温精度±1 度，该炉具有体积小、重量轻、升降温度速度快、节能等优点。此设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛下烧制样品，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。
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VBF-1200X-E8 是一款可升降的立式气氛管式炉,底部安装有升降台，可实现样品快速气体冷却。可放入样品的最大尺寸为φ200*50mm。样品加热采用 PID 方式控温，可设置 30段升降温程序。
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GSL-1000X-S 是一款微型管式炉（管径:20mm）,最高温度可达 1000℃，标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户接通电源即可立即使用。30 段可编程精密温度控制器，可根据不同的客户需求来设定升温程序。炉体可垂直或水平放置以满足不同的应用，如样品热处理、VSL、CVD 以及气体分析等实验工艺中
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GSL-1100X-S 是一款已通过 CE 认证的小口径管式炉，是专为制备小样品设计，最高温度 可达 1100℃，标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户接通电源即可立即使用。30 段可 编程精密温度控制器，可根据不同的客户需求来设定升降温程序。控温精度±1℃。炉体可 垂直或水平放置以满足不同的应用，如 VSL、VD 等淬火试验
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GSL-1400X 是一款通过 CE 认证的小型高温管式炉，其炉管采用的高纯氧化铝刚玉管， 加热元件为硅碳棒。一起本身带有两个真空密封法兰（法兰上已安装机械压力表和不锈钢截 止阀），控制系统采用高精度可控硅移相除法控制，控温方式采用 30 段程序设置，最高温度 可达 1400℃。
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