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1200℃三温区三通道混气CVD系统 OTF-1200X-8...

​OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统,其管径为80mm,采用机械泵,它是由管式炉,三路浮子流量供气系统组成,其真空度可达到10-2 torr。

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全自动双炉滑动 CVD 系统(1200℃ Max)

全自动双炉滑动 CVD 系统(1200℃Max) OTF-1200X-S2-50SL-CVDOTF-1200X-S2-50SL-CVD 是一款全自动控制的 CVD 系统,可存储预制实验参数自动生成工艺流程,预设工艺流程,存储预制流程,调用工艺流程,系统自动执行工艺流程,并记录工艺流程。该系统由三个模块组成,双炉体滑动加热系统,真空系统,四通道气体质量流量计控制系统,独立开发的逻辑软件对以上三套系统进行工艺预设编程性控制。

全自动双炉滑动 CVD 系统(1200℃ Max)

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Mist-CVD 系统 GSL-1600X-CVD

GSL-1600X-CVD 是一款多功能的合成系统,针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺,此款仪器有三个组成模块,超声雾化装置,1700 度管式炉和高压静电收集装置。材料制作分为三个步骤:前驱体雾化,加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统,可广泛用于纳米材料制备,电极材料包覆复合等方面。

Mist-CVD 系统 GSL-1600X-CVD

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