OTF-1500X-80-VTQ是一款开启式立式淬火管式炉，其炉管直径为Φ80mm的刚玉管，采用液体罐来密封。此设备设计是用于样品高温淬火。样品高温处理后（最高温度1500℃），迅速坠落到冰水中或油中，来研究样品在高温状态下的相变和结构。
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GSL-1700X-VTQ是一款通过UL认证的立式真空管式淬火炉，标配有直径60mm的刚玉管和一个用于样品淬火的液体密封容器。该设备实验时可以使样品从高温环境下（最高1700度）快速落入冰水或油中，非常适合用于研究材料相变和微结构性能。
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GSL-1100X-S-VTQ是一款小型立式淬火炉，标配有φ50mm石英管、真空密封法兰以及用于样品淬火密封罐。实验时，材料可放置于石英管中，在真空或惰性气氛保护下加热到所需温度，之后手动倾斜炉体，实现淬火工艺，非常适合用于研究材料相变和微结构性能。
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GSL-1800X-III是一款1800℃三温区管式炉，采用进口 Kathal Super-1900C 硅钼棒作为加热元件，以氧化铝纤维板作为炉膛材料，并且内部嵌有氧化锆纤维。仪器配有60*1200mm的刚玉管和一套不锈钢法兰，法兰上开有dia30mm的石英窗口，以供客户使用。每个温区采用三个温控系统独立控制，都可设置30段升降温程序，仪器最高温度可以达到1800℃。对于在真空或气氛保护环境下对陶瓷和各种新型材料的烧结制备，高温下研究材料的拉曼光谱，以及用CVD法制备外延膜，GSL-1800X-III是
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GSL-1800X-KS是一款通过CE认证的高温管式炉，其内膛中嵌有ZrO2的内衬，加热元件采用Kanthal Super-1900硅钼棒，所以使得仪器最高温度可以达到1800℃。仪器标配中含有一套不锈钢真空法兰（法兰上安装有不锈钢针阀和机械压力表）和一根标配高纯氧化铝炉管（60mmO.Dx 1000 mm L）。控温系统采用PID30段程序化控温，控温精度可达到+/-1℃。此仪器广泛的用于在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结和退火。
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GSL-1700X-KS是一款通过CE认证的小型管式炉，加热元件采用Kathal Super-1800 硅钼棒，使得仪器最高温度可以达到1750℃。炉管标配采用直径为60mm的高纯刚玉管。控温系统可以设置30段升降温程序，对于在真空或是气氛保护环境下对材料烧结或是退火，此设备是一个理想的选择。
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OTF-1200X-5S是一款CE认证的小型开启式管式炉，其最高工作温度可以达到1200℃。炉管Φ130mm(或100mm)的高纯石英管。设备配有一对不锈钢密封法兰，可在真空或气氛保护环境下对样品进行热处理。对于控温系统，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1℃。此款管式炉最多可对4英寸的晶片进行退火。
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OTF-1200X-5L是一款可开启式加长单温区管式炉，炉管尺寸为 5英寸，最高温度达到1200℃。炉体用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。内炉膛表面涂有1750℃美国进口的高温氧化铝涂层材料提高反射率及设备的加热效率和炉膛洁净度，同时延长仪器的使用寿命。进口加热电阻丝镶嵌延长炉体使用寿命，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。
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GSL-1100X-50-LVT 是一款已通过CE认证的1100℃分体式真空管式炉. 标配内包含KF25 转接口、 进口数显真空计 、双旋片机械泵 、 油雾过滤器 另外配有 OMEGA 测温仪及K 型热电偶 一套 可将K型热偶从左端法兰安装于炉管内部从OMEGA测温仪上读取样品实时温度. 30段可编程温度控制仪，可按不同客户的实验要求设置所需要的升温速率，控温精度±1℃.炉体在加热过程中真空不能高于1E-2 Torr使用，否则容易造成炉管的损坏。
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RTP1000-LCD是一款4"RTP (快速热处理) 管式炉。包括多通道质子流量计控制系统，在操控的同时，可实时查看气体流量曲线和数据。他专为半导体基片和太阳能电池或其他样品（尺寸可达3"）退火而设计。 这款设备是采用12KW的红外灯加热，最快升温速度是50℃/秒。 30 段精确温度控制，仪表控温精度是 +/-1℃。RS485接口和控制软件可以通过计算机控制炉子运行并显示温度曲线。
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OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S，此款设备不仅可对样品进行快速热处理，还可采用HPCVD方法来生长二维晶体（一个加热区用来盛放固体蒸发原料，另一个加热区用于沉积样品）。
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