OTF-1200X-V是一款通过CE认证的六温区超长开启式管式炉，每个温区分别由一个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成五段温度梯度或是形成较长的恒温区域，1500mm长的恒温区，最高温度1200oC，该炉也可以配合使用不同管径dia1"~4"x1400mm长的炉管，独立控制单元里配有6个30段程序温度控制仪，可在远处控制操作炉子，并可在多种气氛中工作，此款管式炉管长2.5米，可用于制作纳米碳管。
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OTF-1500X-6Z是一款6温区开启式管式炉，刚玉管和不锈钢密封法兰，最高温度可达1500℃。六个独立的温控系统，采用S型热电偶，控温精度为 +/-1°C。此款设备可非常好地用于高温CVD和热处理应用。
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概述
KSL-1200X-BF6—款小型网带炉，其网带宽度为6"（150mm）。所要热处理的样品放在网带上，网带传送样品连续通过7个加热温区。此款设备是一款中式生产设备适合于薄膜、电子元件退火，光伏电池制作以及陶瓷材料或金属材料退火。
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OTF-1200X-VI-5UL是一款七温区开启式管式炉，炉体和控制柜分开，最高温度可以达到1200℃。炉体内有七个温区，每个温区都有独立的温控系统来控制，都可设置30段升降温程序。炉体上放置炉管为130（O.D）*122（I.D）*2000（L）mm的石英管，同时也可配置直径为25mm、50mm、60mm、80mm或100mm的石英管来使用，并且所配密封法兰采用卡箍式快接法兰，操作时更加方便。
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OTF-1500X-Z8是一款8温区的开启式管式炉，配有莫来石炉管和不锈钢密封法兰，炉体最高工作温度可达1500℃。加热元件为SiC棒，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，来满足各种实验要求。如渐变功能材料，高通量法研究相变和再结晶等。
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OTF-1200X-10-VT是一款十温区立式/水平式两用型开启式管式炉配有中100*2000mm石英管和快捷开启式密封法兰，炉体最高温度可达1200℃。加热元件为电阻丝，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，同时可手动变更炉体模式为立式炉实现样品在真空或气氛保护环境下的吊烧和淬火，可满足各种实验要求。如制备梯度功能材料，高通量CVD法制备材料、研究相变等等。
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OTF-1200X-4-RTP-SL是一款能够快速升温和降温的管式炉，其通过红外灯管加热达到快速升温的效果（最大升温速率> 50°C/S），通过炉体滑动来达到快速冷却效果（最大降温速率>10°C/S）。
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OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S，此款设备不仅可对样品进行快速热处理，还可采用HPCVD方法来生长二维晶体（一个加热区用来盛放固体蒸发原料，另一个加热区用于沉积样品）。
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RTP1000-LCD是一款4"RTP (快速热处理) 管式炉。包括多通道质子流量计控制系统，在操控的同时，可实时查看气体流量曲线和数据。他专为半导体基片和太阳能电池或其他样品（尺寸可达3"）退火而设计。 这款设备是采用12KW的红外灯加热，最快升温速度是50℃/秒。 30 段精确温度控制，仪表控温精度是 +/-1℃。RS485接口和控制软件可以通过计算机控制炉子运行并显示温度曲线。
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GSL-1100X-50-LVT 是一款已通过CE认证的1100℃分体式真空管式炉. 标配内包含KF25 转接口、 进口数显真空计 、双旋片机械泵 、 油雾过滤器 另外配有 OMEGA 测温仪及K 型热电偶 一套 可将K型热偶从左端法兰安装于炉管内部从OMEGA测温仪上读取样品实时温度. 30段可编程温度控制仪，可按不同客户的实验要求设置所需要的升温速率，控温精度±1℃.炉体在加热过程中真空不能高于1E-2 Torr使用，否则容易造成炉管的损坏。
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OTF-1200X-5L是一款可开启式加长单温区管式炉，炉管尺寸为 5英寸，最高温度达到1200℃。炉体用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。内炉膛表面涂有1750℃美国进口的高温氧化铝涂层材料提高反射率及设备的加热效率和炉膛洁净度，同时延长仪器的使用寿命。进口加热电阻丝镶嵌延长炉体使用寿命，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。
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OTF-1200X-5S是一款CE认证的小型开启式管式炉，其最高工作温度可以达到1200℃。炉管Φ130mm(或100mm)的高纯石英管。设备配有一对不锈钢密封法兰，可在真空或气氛保护环境下对样品进行热处理。对于控温系统，可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1℃。此款管式炉最多可对4英寸的晶片进行退火。
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