灭菌净化・分离萃取・马弗炉

IMCS-2000-S是一款桌面型熔炼/浇铸炉。此设备带有一可旋转真空腔体（熔炼和浇铸在此腔体内），通过感应加热方式在真空或气氛保护环境下可熔炼各种金属材料，最高温度可达2000℃，通过腔体旋转可进行样品浇铸。此熔炼/浇铸炉是一款理想的探索新一代合金的工具。

2000℃桌面型熔炼浇铸炉 IMCS-2000-S

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IMCS-1700是一款感应熔炼/铸造系统，可在气氛保护环境下熔炼-铸造各种金属材料，其最大样品处理量可达2KG，最高温度为1700℃。

1700℃熔炼铸造炉 IMCS-1700

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IMCS-1600G是一套感应熔炼系统，可用于各种合金在惰性气体保护环境下熔炼/铸造，造粒等，最高温度可达1600℃。此设备可将块状金属熔化，然后造出1-6mm直径的金属颗粒，为了球磨混料后再进一步熔炼。

1600℃感应熔炼/造粒/铸造炉 IMCS-1600G

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MCS-1500RC是一款感应加热的连续铸造炉，可在气氛保护环境下各种合金进行熔炼和连续铸造，可铸造出棒材，管材和金属板材，最高熔炼温度可达1500℃。

FMF-65是一款落地式水冷坩埚真空悬浮感应熔炼炉系统，并且带有坩埚倾倒装置，可做金属浇铸实验，可用干新一代磁性合金和金属材料的探索研究。设备中包含一功率高达65KW的感应熔炼炉，可有效地加热高达250g的金属样品（Ti）），最高加热温度达1800℃。不锈钢真空腔体保证样品可在真空或气氛保护环境下进行熔炼，采用特殊样式的水冷铜坩埚使得金属样品能够在熔炼过程中悬浮，避免了坩埚对物料的污染。熔炼过程中强烈的电磁搅拌也能够保证其样品内部的温度及化学成分的均一性。

真空悬浮感应熔炼/浇铸炉 FMF-65

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GSL-1600X-CVD 是一款多功能的合成系统，针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺，此款仪器有三个组成模块，超声雾化装置，1700 度管式炉和高压静电收集装置。材料制作分为三个步骤：前驱体雾化，加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统，可广泛用于纳米材料制备，电极材料包覆复合等方面。

Mist-CVD 系统 GSL-1600X-CVD

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全自动双炉滑动 CVD 系统（1200℃Max） OTF-1200X-S2-50SL-CVDOTF-1200X-S2-50SL-CVD 是一款全自动控制的 CVD 系统，可存储预制实验参数自动生成工艺流程，预设工艺流程，存储预制流程，调用工艺流程，系统自动执行工艺流程，并记录工艺流程。该系统由三个模块组成，双炉体滑动加热系统，真空系统，四通道气体质量流量计控制系统，独立开发的逻辑软件对以上三套系统进行工艺预设编程性控制。

全自动双炉滑动 CVD 系统（1200℃ Max）

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OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，三路浮子流量供气系统组成，其真空度可达到10-2 torr。

1200℃三温区三通道混气CVD系统 OTF-1200X-8...

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SKJ-50CZ是一款高质量的CZ晶体生长炉，可针对于材料的实验探索，也可以适用于晶体材料的生产。此款晶体生长炉已经被证实可以是拉督种氧化物单晶和金属单晶，如蓝宝石 GGG.YAG.IaAlO3.Si和Ge 等，最高温度可达2100℃，最大可长出晶体尺寸为3英寸。

晶体生长炉 SKJ-50CZ

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OTF-1200X-10-VT是一款十温区立式/水平式两用型开启式管式炉配有中100*2000mm石英管和快捷开启式密封法兰，炉体最高温度可达1200℃。加热元件为电阻丝，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，同时可手动变更炉体模式为立式炉实现样品在真空或气氛保护环境下的吊烧和淬火，可满足各种实验要求。如制备梯度功能材料，高通量CVD法制备材料、研究相变等等。

1200℃立式/水平十温区管式炉 OTF-1200X-10-...

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OTF-1500X-Z8是一款8温区的开启式管式炉，配有莫来石炉管和不锈钢密封法兰，炉体最高工作温度可达1500℃。加热元件为SiC棒，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，来满足各种实验要求。如渐变功能材料，高通量法研究相变和再结晶等。

1500℃八温区开启式管式炉 OTF-1500X-Z8

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OTF-1200X-VI-5UL是一款七温区开启式管式炉，炉体和控制柜分开，最高温度可以达到1200℃。炉体内有七个温区，每个温区都有独立的温控系统来控制，都可设置30段升降温程序。炉体上放置炉管为130（O.D）*122（I.D）*2000（L）mm的石英管，同时也可配置直径为25mm、50mm、60mm、80mm或100mm的石英管来使用，并且所配密封法兰采用卡箍式快接法兰，操作时更加方便。