灭菌净化・分离萃取・马弗炉

GSL-1100X-50-LVT 是一款已通过CE认证的1100℃分体式真空管式炉. 标配内包含KF25 转接口、进口数显真空计、双旋片机械泵、油雾过滤器另外配有 OMEGA 测温仪及K 型热电偶一套可将K型热偶从左端法兰安装于炉管内部从OMEGA测温仪上读取样品实时温度. 30段可编程温度控制仪，可按不同客户的实验要求设置所需要的升温速率，控温精度±1℃.炉体在加热过程中真空不能高于1E-2 Torr使用，否则容易造成炉管的损坏。

GSL-1100X-50-LVT 1100℃带校准系统管式炉

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OTF-1200X-PESDFG-50是一款双炉体滑动的PECVD系统，连接循环手套箱。此款设备中石英炉管与循环手套箱连接，可利用CVD方法，将样品处理后直接移入到气氛保护环境下的手套箱中。炉体采用滑动式，可在实验室中对样品进行快速加热和快速冷却。此款仪器特别适合新一代纳米材料和二维晶体材料的探索研究。

OTF-1200X-PESDFG-50 双炉体滑动PECVD...

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RTP1000-LCD是一款4"RTP (快速热处理) 管式炉。包括多通道质子流量计控制系统，在操控的同时，可实时查看气体流量曲线和数据。他专为半导体基片和太阳能电池或其他样品（尺寸可达3"）退火而设计。这款设备是采用12KW的红外灯加热，最快升温速度是50℃/秒。 30 段精确温度控制，仪表控温精度是 +/-1℃。RS485接口和控制软件可以通过计算机控制炉子运行并显示温度曲线。

RTP-1000-LCD RTP快速加热炉

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OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S，此款设备不仅可对样品进行快速热处理，还可采用HPCVD方法来生长二维晶体（一个加热区用来盛放固体蒸发原料，另一个加热区用于沉积样品）。

OTF-1200X-IR-IISL 900℃ 双温区RTP炉

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OTF-1200X-II-HPV是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的最高温度为1100℃（在此温度下可承受的压力为3MPa).此款设备适合用水浴法制备材料，也特别适合在高压氧环境下对样品进行热处理。法兰上安装有电磁阀，当炉管内压力高于设定值时，电磁发自动打开排出气体减小管内气压。

OTF-1200X-II-HPV 1100℃双温区立式高温高...

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OTF-1200X-X-85GF是一款高温高压管式炉，炉体有十个温区，并配有压力 & 气体流量控制系统。此设备炉管采用Ni基合金钢制作，可在氧或惰性气体环境下承受高温高压（最高温度为1000℃），压力控制系统主要是保证设备升温和降温过程中炉管内部压力稳定。此设备适用于制备Fe基超导材料或新一代氧化物陶瓷材料。

OTF-1200X-X-85GF 1100℃ 十温区高压管式...

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OTF-1200X-VII-80-GF是一款高温高压管式炉，炉体拥有8个温区。仪器中配有气体控制柜以及氧分析仪，可使炉管内的气压在升降温过程中保持恒定，特别是对于氧化物的处理，可使炉管内的氧分压保持恒定。炉管采用高温镍基合金钢制作，最高可耐温1100℃。此款高温高压炉特意设计为氧化物超导线和氧化物陶瓷进行热处理。

OTF-1200X-VIII-80-GF

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OTF-1200X-4-RTP-SL是一款能够快速升温和降温的管式炉，其通过红外灯管加热达到快速升温的效果（最大升温速率> 50°C/S），通过炉体滑动来达到快速冷却效果（最大降温速率>10°C/S）。

OTF-1200X-4-RTP-SL 滑动式RTP快速退火炉

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KSL-1200X-H2是一款通过CE认证和TUV/UL认证的箱式炉，此款箱式炉设计专针对在氢气环境下进行热处理，最高温度可达1200℃。炉腔内设计为5面加热，使得炉膛内部温场更加均匀，以Kathal公司的Fe-Cr-Al 合金为加热元件。炉膛尺寸为400×400×400mm炉门带有真空密封设计，设计有水冷却管，以保护密封圈。炉顶安装有氢气自动点火装置。此款箱式炉特别适合于制作需在还原气氛下热处理的材料，如荧光粉和钛合金等。同时也可在惰性气氛或氧气环境下对材料进行热处理。