GSL-1000X-S 是一款微型管式炉（管径:20mm）,最高温度可达 1000℃，标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户接通电源即可立即使用。30 段可编程精密温度控制器，可根据不同的客户需求来设定升温程序。炉体可垂直或水平放置以满足不同的应用，如样品热处理、VSL、CVD 以及气体分析等实验工艺中
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KSL-1400X-MW是一款微波款速加热的实验型箱式炉，与传统马弗炉相比较为节省时间，大大提高工作效率，适用于电子陶瓷、磁性材料电子陶瓷粉体、锂离子电池正极材材料及其他无机氧化物粉体的烧结制备。
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KSL-1600X-MW6是一款微波快速加热的实验型箱式炉，加热速率可达60℃/min，适用于电子陶瓷，磁性材料电子陶瓷粉体、锂离子电池正极材材料及其他无机氧化物粉体的烧结制备。
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VBF-1700-LPE是为生长YIG单晶而设计的液相外延生长炉。
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VBF-1200X-TSSG是一款顶部籽晶法晶体生长炉，可利用助溶剂法生长各种材料单晶。配备精密旋转提拉机构可用于顶部籽晶助溶剂法生长各种晶体材料，提拉和旋转速度采用PLC触摸屏控制，操作简便。箱式炉采用氧化铝纤维作为炉膛材料，以电阻丝为加热元件，其腔体尺寸为φ240mm×200mm（H），最高温度可达1200℃。采用欧陆仪表进行控温，可根据不同的客户需求来设定升降温程序（最高24段），控温精度可达±0.1℃。
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KSL-1700X-S-H是一款紧凑型的混合箱式炉，采用4.7"×4.7"×4.7"高纯度纤维状氧化铝腔，配有两个直径为18mm的氧化铝管，利用垫砖将炉膛分为两层，可放置较多的实验样品。使用温度800℃C-1700°C。该设备是在空气和控制气氛中处理小样品的较好炉型。
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VBF-1200X-E8 是一款可升降的立式气氛管式炉,底部安装有升降台，可实现样品快速气体冷却。可放入样品的最大尺寸为φ200*50mm。样品加热采用 PID 方式控温，可设置 30段升降温程序。
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GSL-2000X-HV 是一款高温高真空气氛烧结炉，根据不同的加热元件模块，最高烧结温度可从1600℃到2000℃，此款烧结炉的真空度可高达10 -6Torr（分子泵）
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水平真空管式炉 VBF-1200X-H8 以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和 30 段程序控温，K 型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1100 度，可连续工作温度 1000 度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。
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KSL-1100X-S-H 是一款小型混合箱式/管式炉，作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理，作为管式炉可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理，以电阻丝为加热元件，采用 K 型热电偶和 30 段可编程温度控制器，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1100 度，可连续温度 1000 度，控温精度±1 度，该炉具有体积小、重量轻、升降温度速度快、节能等优点。此设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛下烧制样品，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。
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OTF-1200X-5-R-II 是一款高温气氛管式炉，用于对氧化敏感材料进行高温热处理，最高温度可达 1200℃。标配有一根外径 60mm 的连熔炉管。设备配置有进气电磁阀、电子点火器和探测器，一旦有气体泄漏，将自动切断进气。炉管两端安装有防爆网，以便在出现紧急情况下提供额外的安全保护。控温系统采用 PID30 段程序化控温，控温精度可达±1℃。
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KSL-1700X-S 是一款高温箱式炉，以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和 PID 程序控温，B 型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1700 度，可连续工作温度 1600度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。
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