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下装载炉 VTF-1600X-D2

VTF-1600X-D2 是一款最高温度 1650℃,连续使用温度 1600℃箱式炉。可以实现对样品用于急热急冷试验。炉门设计采用下装载门和侧门,下装载门打开时,侧门关闭,防止炉膛走火和保持炉膛内温场稳定。通过 PLC 控制下装载和侧门,可以实现对材料循环热氧老化实验。

下装载炉 VTF-1600X-D2

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触摸屏控制 1700℃高温箱式炉(36L)

KSL-1700X-A4-CP 高温箱式炉是一款 CE 认证的高温烧结炉,采用触摸屏控制,控制系统与炉膛于一体。采用硅钼棒为加热元件,518P 能温度调节仪和 B 型双铂铑热电偶配套使用,对炉膛内部温度的测温调节和自动控制。炉膛最高温度 1700℃ 是专为高等院校、科研院所的实验室及工矿企业对金属、非金属及其化合物材料进行烧结、融化、分析而研制的专用设备,触摸屏控制可针对多种工艺曲线(最大储存 15 条)进行编辑预设,随时调用,并带有实施工艺记录功能,可使用 USB 对数据下载。

触摸屏控制 1700℃高温箱式炉(36L)

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1700℃带观察窗箱式炉 KSL-1700X-A2-W

KSL-1700X-A2-W 是一款 1700℃带观察窗口高温箱式炉,直径 50mm 的石英窗口,可用于红外相机或光学设备加热时在线观察样品,加热炉由优质氧化铝绝缘材料和 1800 级硅钼棒组成,高精度 SCR(硅控整流器)和温控器配套用于测量和温度控制,30 段可编程控制器,控温精度±1℃。

1700℃带观察窗箱式炉 KSL-1700X-A2-W

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1700℃炉门一体化 KSL-1700X-A2

KSL-1700X-A2 是一款 1700℃门堵和炉门一体化高温箱式炉,可用于高温开门取放样品,加热炉由优质氧化铝绝缘材料和 1800 级硅钼棒组成,高精度 SCR(硅控整流器)和温控器配套用于测量和温度控制,30 段可编程控制器,控温精度±1℃。

1700℃炉门一体化 KSL-1700X-A2

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箱式炉 KSL-1700X-S

KSL-1700X-S 是一款高温箱式炉,以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和 PID 程序控温,B 型热电偶,炉膛采用高纯氧化铝纤维材料,最高温度能达到 1700 度,可连续工作温度 1600度,控温精度±1 度,该炉具有温场均匀、表面温度低,节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结,金属退火、质量检测用的理想产品。

箱式炉 KSL-1700X-S

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气氛回转炉 OTF-1200X-5-R-II

OTF-1200X-5-R-II 是一款高温气氛管式炉,用于对氧化敏感材料进行高温热处理,最高温度可达 1200℃。标配有一根外径 60mm 的连熔炉管。设备配置有进气电磁阀、电子点火器和探测器,一旦有气体泄漏,将自动切断进气。炉管两端安装有防爆网,以便在出现紧急情况下提供额外的安全保护。控温系统采用 PID30 段程序化控温,控温精度可达±1℃。

气氛回转炉 OTF-1200X-5-R-II

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小型混合箱式/管式炉 KSL-1100X-S-H

KSL-1100X-S-H 是一款小型混合箱式/管式炉,作为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理,作为管式炉可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理,以电阻丝为加热元件,采用 K 型热电偶和 30 段可编程温度控制器,炉膛采用高纯氧化铝纤维材料,最高温度能达到 1100 度,可连续温度 1000 度,控温精度±1 度,该炉具有体积小、重量轻、升降温度速度快、节能等优点。此设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛下烧制样品,是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结,金属退火、质量检测用的理想产品。

小型混合箱式/管式炉 KSL-1100X-S-H

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水平真空管式炉 VBF-1200X-H8

水平真空管式炉 VBF-1200X-H8 以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和 30 段程序控温,K 型热电偶,炉膛采用高纯氧化铝纤维材料,最高温度能达到 1100 度,可连续工作温度 1000 度,控温精度±1 度,该炉具有温场均匀、表面温度低,升降温度速度快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结,金属退火、质量检测用的理想产品。

水平真空管式炉 VBF-1200X-H8

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高温&高真空退火炉 GSL-2000X-HV

GSL-2000X-HV 是一款高温高真空气氛烧结炉,根据不同的加热元件模块,最高烧结温度可从1600℃到2000℃,此款烧结炉的真空度可高达10 -6Torr(分子泵)

高温&高真空退火炉 GSL-2000X-HV

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立式真空炉 VBF-1200X-E8

VBF-1200X-E8 是一款可升降的立式气氛管式炉,底部安装有升降台,可实现样品快速气体冷却。可放入样品的最大尺寸为φ200*50mm。样品加热采用 PID 方式控温,可设置 30段升降温程序。

立式真空炉 VBF-1200X-E8

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KSL-1700X-S-H

KSL-1700X-S-H是一款紧凑型的混合箱式炉,采用4.7"×4.7"×4.7"高纯度纤维状氧化铝腔,配有两个直径为18mm的氧化铝管,利用垫砖将炉膛分为两层,可放置较多的实验样品。使用温度800℃C-1700°C。该设备是在空气和控制气氛中处理小样品的较好炉型。

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VBF-1200X-TSSG

VBF-1200X-TSSG是一款顶部籽晶法晶体生长炉,可利用助溶剂法生长各种材料单晶。配备精密旋转提拉机构可用于顶部籽晶助溶剂法生长各种晶体材料,提拉和旋转速度采用PLC触摸屏控制,操作简便。箱式炉采用氧化铝纤维作为炉膛材料,以电阻丝为加热元件,其腔体尺寸为φ240mm×200mm(H),最高温度可达1200℃。采用欧陆仪表进行控温,可根据不同的客户需求来设定升降温程序(最高24段),控温精度可达±0.1℃。

VBF-1200X-TSSG

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