OTF-1200X-4-RTP-SL是一款能够快速升温和降温的管式炉，其通过红外灯管加热达到快速升温的效果（最大升温速率> 50°C/S），通过炉体滑动来达到快速冷却效果（最大降温速率>10°C/S）。
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GSL-1600X-CVD 是一款多功能的合成系统，针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺，此款仪器有三个组成模块，超声雾化装置，1700 度管式炉和高压静电收集装置。材料制作分为三个步骤：前驱体雾化，加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统，可广泛用于纳米材料制备，电极材料包覆复合等方面。
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全自动双炉滑动 CVD 系统（1200℃Max） OTF-1200X-S2-50SL-CVDOTF-1200X-S2-50SL-CVD 是一款全自动控制的 CVD 系统，可存储预制实验参数自动生成工艺流程，预设工艺流程，存储预制流程，调用工艺流程，系统自动执行工艺流程，并记录工艺流程。该系统由三个模块组成，双炉体滑动加热系统，真空系统，四通道气体质量流量计控制系统，独立开发的逻辑软件对以上三套系统进行工艺预设编程性控制。
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OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，三路浮子流量供气系统组成，其真空度可达到10-2 torr。
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OTF-1200X-10-VT是一款十温区立式/水平式两用型开启式管式炉配有中100*2000mm石英管和快捷开启式密封法兰，炉体最高温度可达1200℃。加热元件为电阻丝，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，同时可手动变更炉体模式为立式炉实现样品在真空或气氛保护环境下的吊烧和淬火，可满足各种实验要求。如制备梯度功能材料，高通量CVD法制备材料、研究相变等等。
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OTF-1500X-Z8是一款8温区的开启式管式炉，配有莫来石炉管和不锈钢密封法兰，炉体最高工作温度可达1500℃。加热元件为SiC棒，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，来满足各种实验要求。如渐变功能材料，高通量法研究相变和再结晶等。
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OTF-1200X-VI-5UL是一款七温区开启式管式炉，炉体和控制柜分开，最高温度可以达到1200℃。炉体内有七个温区，每个温区都有独立的温控系统来控制，都可设置30段升降温程序。炉体上放置炉管为130（O.D）*122（I.D）*2000（L）mm的石英管，同时也可配置直径为25mm、50mm、60mm、80mm或100mm的石英管来使用，并且所配密封法兰采用卡箍式快接法兰，操作时更加方便。
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概述
KSL-1200X-BF6—款小型网带炉，其网带宽度为6"（150mm）。所要热处理的样品放在网带上，网带传送样品连续通过7个加热温区。此款设备是一款中式生产设备适合于薄膜、电子元件退火，光伏电池制作以及陶瓷材料或金属材料退火。
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OTF-1500X-6Z是一款6温区开启式管式炉，刚玉管和不锈钢密封法兰，最高温度可达1500℃。六个独立的温控系统，采用S型热电偶，控温精度为 +/-1°C。此款设备可非常好地用于高温CVD和热处理应用。
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OTF-1200X-V是一款通过CE认证的六温区超长开启式管式炉，每个温区分别由一个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成五段温度梯度或是形成较长的恒温区域，1500mm长的恒温区，最高温度1200oC，该炉也可以配合使用不同管径dia1"~4"x1400mm长的炉管，独立控制单元里配有6个30段程序温度控制仪，可在远处控制操作炉子，并可在多种气氛中工作，此款管式炉管长2.5米，可用于制作纳米碳管。
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OTF-1200X-V是一款通过CE认证的是五温区开启式管式炉，每个温区分别由五个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度或是形成较长的恒温区域。每个控温系统都采用PID方式调节，可以设置30段升降温程序，采用K型omega热电偶进行温度的测量和控制，其控温精度可以达到+/-1℃。
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OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4温区管式炉，所有电器元件都通过了UL/MET/CSA认证。此款管式炉最高工作温度1100℃，共有4个温区，每个温区长度为100mmL炉管直径为25mm或50mm，并配有一套不锈钢密封法兰，可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。每个温区由独立的温控系统控制，都可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1°℃。
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