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GSL-2000X-HV 是一款高温高真空气氛烧结炉，根据不同的加热元件模块，最高烧结温度可从1600℃到2000℃，此款烧结炉的真空度可高达10 -6Torr（分子泵）
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OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S，此款设备不仅可对样品进行快速热处理，还可采用HPCVD方法来生长二维晶体（一个加热区用来盛放固体蒸发原料，另一个加热区用于沉积样品）。
