灭菌净化・分离萃取・马弗炉

最高转速：21000r/min 最大相对离心力：47400xg 最大容量：4×750ml 定时范围：1min～23h:59min 温度设置范围:-20～40℃ 支持电源:AC 220±22V，50Hz，30A 总功率:4.5Kw 整机噪声:< 65dB（A）外形尺寸( 长×宽×高):710x820x1200(mm) 外包装尺寸:920x1040x1520(mm)

微机控制高速冷冻离心机GL-21MC/GL21MC

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MCS-1500RC是一款感应加热的连续铸造炉，可在气氛保护环境下各种合金进行熔炼和连续铸造，可铸造出棒材，管材和金属板材，最高熔炼温度可达1500℃。

HSC-3020L高速冷冻离心机

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箱式炉 KSL-1200X 以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和 30 段程序控温，K 型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1200 度，可连续工作温度 1100 度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。

箱式炉 KSL-1200X

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箱式炉 KSL-1200X-J-F 是一款分体式箱式炉，以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温，K型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到1200度，可连续工作温度1100度，控温精度±1度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。

箱式炉 KSL-1200X-J-F

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OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，三路浮子流量供气系统组成，其真空度可达到10-2 torr。

1200℃三温区三通道混气CVD系统 OTF-1200X-8...

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箱式炉 KSL-1000X-M 是一款加热线圈密封于腔室内的箱式炉，采用双层壳体结构和 30 段程序控温，K 型热电偶，最高温度能达到 1050 度，可连续工作温度 1000 度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做硫化物电解质，氯化物等腐蚀性材料进行烧结而研制的专业设备。

全自动双炉滑动 CVD 系统（1200℃Max） OTF-1200X-S2-50SL-CVDOTF-1200X-S2-50SL-CVD 是一款全自动控制的 CVD 系统，可存储预制实验参数自动生成工艺流程，预设工艺流程，存储预制流程，调用工艺流程，系统自动执行工艺流程，并记录工艺流程。该系统由三个模块组成，双炉体滑动加热系统，真空系统，四通道气体质量流量计控制系统，独立开发的逻辑软件对以上三套系统进行工艺预设编程性控制。

全自动双炉滑动 CVD 系统（1200℃ Max）

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GSL-1600X-CVD 是一款多功能的合成系统，针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺，此款仪器有三个组成模块，超声雾化装置，1700 度管式炉和高压静电收集装置。材料制作分为三个步骤：前驱体雾化，加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统，可广泛用于纳米材料制备，电极材料包覆复合等方面。

Mist-CVD 系统 GSL-1600X-CVD

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箱式炉 KSL-1200X-J 电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温，K 型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1200 度，可连续工作温度 1100度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。

箱式炉 KSL-1200X-J

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箱式炉 KSL-1100X-S 是以电阻丝为加热元件，采用 K 型热电偶和 30 段可编程温度控制器，下拉式炉门结构，方便客户放样取品，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到1100 度，可连续温度 1000 度，控温精度±1 度，同时设有通气口，可用于氧气或惰性气体下使用。该炉具有体积小、重量轻、温场均匀、升降温度速度快、节能等优点。此设备还可放置到手套箱内在真空和可控气氛下烧制样品，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。

箱式炉 KSL-1100X-S

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箱式炉 KSL-1200X-M 以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和 30 段程序控温，K 型热电偶，炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到 1200 度，可连续工作温度 1100 度，控温精度±1 度，该炉具有温场均匀、表面温度低，升降温度速度快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结，金属退火、质量检测用的理想产品。