VTF-1600X是一款高温井式炉，主要设计用于烧结，熔炼材料或生长晶体（TSSG）。此款高温炉有一个立式腔体，从顶部放入样品，可安装升降机构方便放置样品和取出样品。设备采用MoSi2棒加热，可设置30段温度段，其最高温度可达1700℃，控温精度+/1ºC，炉膛尺寸为Φ240×300mm。
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KSL-1750X-S是一款通过CE认证的高温箱式炉，是我公司最新推出的一款微型高温箱式炉，与KSL1700X高温炉相比，此款设备体积小巧，能耗低（功率：2.5KW)。设备内部采用518P智能温度调节仪和B型双铂铑热电偶，对炉膛温度进行测温调节和自动控制，最高温度可达1750℃
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KSL-1750X-A2高温箱式炉是一款CE认证的高温箱式炉，以硅钼棒为加热元件，518P智能温度调节仪和B型双铂铑热电偶配套使用，对炉膛内部温度的测温调节和自动控制。炉膛最高温度可达1750℃。
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KSL-1750X-A1高温箱式炉是一款CE认证的高温箱式炉，以硅钼棒为加热元件，518P智能温度调节仪和B型双铂铑热电偶配套使用，对炉膛内部温度的测温调节和自动控制。炉膛最高温度可达1750℃。
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KSL-1750X-A3高温箱式炉是一款CE认证的高温箱式炉，以硅钼棒为加热元件，518P智能温度调节仪和B型双铂铑热电偶配套使用，对炉膛内部温度的测温调节和自动控制。炉膛最高温度可达1750℃。
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KSL-1800X-GX是系列大型高温箱式炉，其最高温度可达1800℃。采用下装载方式进料，装载盘承重可达300kg。此款设备可对大批量样品在空气或氧气环境下进行热处理。
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KSL-1200X-H2是一款通过CE认证和TUV/UL认证的箱式炉，此款箱式炉设计专针对在氢气环境下进行热处理，最高温度可达1200℃。炉腔内设计为5面加热，使得炉膛内部温场更加均匀，以Kathal公司的Fe-Cr-Al 合金为加热元件。炉膛尺寸为400×400×400mm炉门带有真空密封设计，设计有水冷却管，以保护密封圈。炉顶安装有氢气自动点火装置。此款箱式炉特别适合于制作需在还原气氛下热处理的材料，如荧光粉和钛合金等。同时也可在惰性气氛或氧气环境下对材料进行热处理。
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OTF-1200X-4-RTP-SL是一款能够快速升温和降温的管式炉，其通过红外灯管加热达到快速升温的效果（最大升温速率> 50°C/S），通过炉体滑动来达到快速冷却效果（最大降温速率>10°C/S）。
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OTF-1200X-X-85GF是一款高温高压管式炉，炉体有十个温区，并配有压力 & 气体流量控制系统。此设备炉管采用Ni基合金钢制作，可在氧或惰性气体环境下承受高温高压（最高温度为1000℃），压力控制系统主要是保证设备升温和降温过程中炉管内部压力稳定。此设备适用于制备Fe基超导材料或新一代氧化物陶瓷材料。
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OTF-1200X-II-HPV是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的最高温度为1100℃（在此温度下可承受的压力为3MPa).此款设备适合用水浴法制备材料，也特别适合在高压氧环境下对样品进行热处理。法兰上安装有电磁阀，当炉管内压力高于设定值时，电磁发自动打开排出气体减小管内气压。
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OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉，其炉管直径为4英寸。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S，此款设备不仅可对样品进行快速热处理，还可采用HPCVD方法来生长二维晶体（一个加热区用来盛放固体蒸发原料，另一个加热区用于沉积样品）。
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RTP1000-LCD是一款4"RTP (快速热处理) 管式炉。包括多通道质子流量计控制系统，在操控的同时，可实时查看气体流量曲线和数据。他专为半导体基片和太阳能电池或其他样品（尺寸可达3"）退火而设计。 这款设备是采用12KW的红外灯加热，最快升温速度是50℃/秒。 30 段精确温度控制，仪表控温精度是 +/-1℃。RS485接口和控制软件可以通过计算机控制炉子运行并显示温度曲线。
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