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真空悬浮感应熔炼/浇铸炉 FMF-65

FMF-65是一款落地式水冷坩埚真空悬浮感应熔炼炉系统,并且带有坩埚倾倒装置,可做金属浇铸实验,可用干新一代磁性合金和金属材料的探索研究。设备中包含一功率高达65KW的感应熔炼炉,可有效地加热高达250g的金属样品(Ti)),最高加热温度达1800℃。不锈钢真空腔体保证样品可在真空或气氛保护环境下进行熔炼,采用特殊样式的水冷铜坩埚使得金属样品能够在熔炼过程中悬浮,避免了坩埚对物料的污染。熔炼过程中强烈的电磁搅拌也能够保证其样品内部的温度及化学成分的均一性。

真空悬浮感应熔炼/浇铸炉 FMF-65

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Mist-CVD 系统 GSL-1600X-CVD

GSL-1600X-CVD 是一款多功能的合成系统,针对于合成各种纳米结构氧化物以及纳米材料的复合包覆工艺,此款仪器有三个组成模块,超声雾化装置,1700 度管式炉和高压静电收集装置。材料制作分为三个步骤:前驱体雾化,加热和纳米颗粒收集。此款系统是一款非常先进的合成系统,可广泛用于纳米材料制备,电极材料包覆复合等方面。

Mist-CVD 系统 GSL-1600X-CVD

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全自动双炉滑动 CVD 系统(1200℃ Max)

全自动双炉滑动 CVD 系统(1200℃Max) OTF-1200X-S2-50SL-CVDOTF-1200X-S2-50SL-CVD 是一款全自动控制的 CVD 系统,可存储预制实验参数自动生成工艺流程,预设工艺流程,存储预制流程,调用工艺流程,系统自动执行工艺流程,并记录工艺流程。该系统由三个模块组成,双炉体滑动加热系统,真空系统,四通道气体质量流量计控制系统,独立开发的逻辑软件对以上三套系统进行工艺预设编程性控制。

全自动双炉滑动 CVD 系统(1200℃ Max)

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1200℃三温区三通道混气CVD系统 OTF-1200X-8...

​OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统,其管径为80mm,采用机械泵,它是由管式炉,三路浮子流量供气系统组成,其真空度可达到10-2 torr。

1200℃三温区三通道混气CVD系统 OTF-1200X-8...

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