VBF-1700-LPE是为生长YIG单晶而设计的液相外延生长炉。
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KSL-1600X-MW6是一款微波快速加热的实验型箱式炉，加热速率可达60℃/min，适用于电子陶瓷，磁性材料电子陶瓷粉体、锂离子电池正极材材料及其他无机氧化物粉体的烧结制备。
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KSL-1400X-MW是一款微波款速加热的实验型箱式炉，与传统马弗炉相比较为节省时间，大大提高工作效率，适用于电子陶瓷、磁性材料电子陶瓷粉体、锂离子电池正极材材料及其他无机氧化物粉体的烧结制备。
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GSL-1000X-S 是一款微型管式炉（管径:20mm）,最高温度可达 1000℃，标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户接通电源即可立即使用。30 段可编程精密温度控制器，可根据不同的客户需求来设定升温程序。炉体可垂直或水平放置以满足不同的应用，如样品热处理、VSL、CVD 以及气体分析等实验工艺中
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GSL-1100X-S 是一款已通过 CE 认证的小口径管式炉，是专为制备小样品设计，最高温度 可达 1100℃，标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户接通电源即可立即使用。30 段可 编程精密温度控制器，可根据不同的客户需求来设定升降温程序。控温精度±1℃。炉体可 垂直或水平放置以满足不同的应用，如 VSL、VD 等淬火试验
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GSL-1400X 是一款通过 CE 认证的小型高温管式炉，其炉管采用的高纯氧化铝刚玉管， 加热元件为硅碳棒。一起本身带有两个真空密封法兰（法兰上已安装机械压力表和不锈钢截 止阀），控制系统采用高精度可控硅移相除法控制，控温方式采用 30 段程序设置，最高温度 可达 1400℃。
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釆用双层壳体结构，并带有风冷系统
•炉膛采用高纯多晶氧化铝纤维，最大程度的减少能量损失
•内炉膛表面涂有美国进口 1750度高温氧化铝涂层可以提高反射率及设备的 加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命
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GSL-1600X 该款箱式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和 30 段程序控温，B 型热电偶，双层炉壳间配有风冷循环系统，最高温度能达到 1600℃，可在 1550℃下连续工 作，控温精度±1℃；该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是 高校、科研院所、工矿企业做新材料样品的烧结或是退火（在真空或是惰性气体保护状态下） 的理想产品。
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GSL-1700X 系列真空管式高温炉以硅钼棒为发热元件，额定温度 1600℃，采用 B 型双铂 铑热电偶测温和 518P 温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空 装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、 操作简单、维修方便等优点，可广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。
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OTF-1500X-II-R60-AF 使一款双温区的管式炉，带有自动进料、传输和反应的装置。自动 进料器可控制物料机内炉管内的速率，螺杆传输器将粉料运输穿过管式炉加热区（控制螺杆 传动速度来决定物料在加热区的内停留的时间）通过气体的反应，对物料进行包裹和修饰。
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OTF-1200X-S-II 是一款通过 CE 认证的小型双温区开启式管式炉，其最高工作温度可达 1200℃，此款管式炉的炉管为高纯石英管，其直径为 25mm 或 50mm。配有一套不锈钢密封法 兰。可对样品在真空状态或气氛保护状态下进行热处理。管式炉拥有两个加热长度为 100mm 的加热区，两个温区的最大恒温梯度为 200℃，若两个温区设置同样的温度程序，可得到 100mm 恒温区。两个温控系统分别独立控制两个温区，都可设置 30 段升温程序，控温精度 为±1℃
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GSL-1700X-II 是一款 CE 认证的双温区高温管式炉，每个加热区长度 12″，由 30 段智能 温度调节仪进行控温，温度达到 1700℃时加热元件采用硅钼棒，温度在 1400℃时加热元件 采用硅碳棒，可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一个温度梯度，此系列管式 炉可以用 CVD 或 PVD 方法来生长纳米材料各制作各种薄膜
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