GSL-1800X-III是一款1800℃三温区管式炉，采用进口 Kathal Super-1900C 硅钼棒作为加热元件，以氧化铝纤维板作为炉膛材料，并且内部嵌有氧化锆纤维。仪器配有60*1200mm的刚玉管和一套不锈钢法兰，法兰上开有dia30mm的石英窗口，以供客户使用。每个温区采用三个温控系统独立控制，都可设置30段升降温程序，仪器最高温度可以达到1800℃。对于在真空或气氛保护环境下对陶瓷和各种新型材料的烧结制备，高温下研究材料的拉曼光谱，以及用CVD法制备外延膜，GSL-1800X-III是
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OTF-1200X-10-VT是一款十温区立式/水平式两用型开启式管式炉配有中100*2000mm石英管和快捷开启式密封法兰，炉体最高温度可达1200℃。加热元件为电阻丝，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，同时可手动变更炉体模式为立式炉实现样品在真空或气氛保护环境下的吊烧和淬火，可满足各种实验要求。如制备梯度功能材料，高通量CVD法制备材料、研究相变等等。
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OTF-1500X-Z8是一款8温区的开启式管式炉，配有莫来石炉管和不锈钢密封法兰，炉体最高工作温度可达1500℃。加热元件为SiC棒，每个温区分别由独立的温控系统控制，可在炉管内形成多种温度梯度，来满足各种实验要求。如渐变功能材料，高通量法研究相变和再结晶等。
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OTF-1200X-VI-5UL是一款七温区开启式管式炉，炉体和控制柜分开，最高温度可以达到1200℃。炉体内有七个温区，每个温区都有独立的温控系统来控制，都可设置30段升降温程序。炉体上放置炉管为130（O.D）*122（I.D）*2000（L）mm的石英管，同时也可配置直径为25mm、50mm、60mm、80mm或100mm的石英管来使用，并且所配密封法兰采用卡箍式快接法兰，操作时更加方便。
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概述
KSL-1200X-BF6—款小型网带炉，其网带宽度为6"（150mm）。所要热处理的样品放在网带上，网带传送样品连续通过7个加热温区。此款设备是一款中式生产设备适合于薄膜、电子元件退火，光伏电池制作以及陶瓷材料或金属材料退火。
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OTF-1500X-6Z是一款6温区开启式管式炉，刚玉管和不锈钢密封法兰，最高温度可达1500℃。六个独立的温控系统，采用S型热电偶，控温精度为 +/-1°C。此款设备可非常好地用于高温CVD和热处理应用。
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OTF-1200X-V是一款通过CE认证的六温区超长开启式管式炉，每个温区分别由一个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成五段温度梯度或是形成较长的恒温区域，1500mm长的恒温区，最高温度1200oC，该炉也可以配合使用不同管径dia1"~4"x1400mm长的炉管，独立控制单元里配有6个30段程序温度控制仪，可在远处控制操作炉子，并可在多种气氛中工作，此款管式炉管长2.5米，可用于制作纳米碳管。
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OTF-1200X-V是一款通过CE认证的是五温区开启式管式炉，每个温区分别由五个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度或是形成较长的恒温区域。每个控温系统都采用PID方式调节，可以设置30段升降温程序，采用K型omega热电偶进行温度的测量和控制，其控温精度可以达到+/-1℃。
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OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4温区管式炉，所有电器元件都通过了UL/MET/CSA认证。此款管式炉最高工作温度1100℃，共有4个温区，每个温区长度为100mmL炉管直径为25mm或50mm，并配有一套不锈钢密封法兰，可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。每个温区由独立的温控系统控制，都可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1°℃。
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OTF-1200X-Ⅳ是一款四温区开启式管式炉，加热区 900mm(150+300+300+150mm)， 四个温区都由独立的温控系统控制，可以设置一条曲线，下载到四个温区中一键运行四 个温区,30 段升降温程序，控温精度±1，最高温度可以达 1200℃，炉管为高纯石英管， 直径 25、50、60、80、100、130mm 可以选择，设备配有一对不锈钢密封法兰，可以在真 空或气氛保护下对样品进行处理。
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三温区摇摆管式炉 OTF-1200X-R-III 采用高纯氧化铝纤维作为炉膛材料，炉管 采用 304 不锈钢制作，不仅可耐温 1000℃，而且延展性非常好。炉体可实现从 -30 度到+90 度的摇摆运动。电路控制系统和炉子摇摆加热系统为一体式，实现 整个工作过程的一体化操作。
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